1.发生了什么:蔡司半导体光学元件制造(SMO)总裁接受专访表示,AI带动晶片需求急升,High-NA光学生产条件已经具备,2026、2027年订单能见度明确。
2.属于产业链哪个环节:光刻(步骤6),High-NA光学系统是下一代EUV光刻机的核心部件。
3.可能影响的公司或赛道:ASML High-NA EUV光刻机供应链、先进制程(2nm及以下)晶圆厂如台积电、三星、英特尔。
4.为什么值得关注:High-NA EUV是延续摩尔定律的关键,光学系统量产就绪意味着先进制程扩产有了光学保障,直接影响未来两年先进晶圆的产能爬坡。
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