本期聚焦光刻与先进封装关键进展:ASML台湾销售激增验证扩产动力,无掩模EUV技术挑战传统光刻,CPO可靠性数据支撑规模部署,长江存储上市传闻引发存储市场关注。

厂商动态

Hana Securities称长江存储YMTC将于今年12月上市

1.发生了什么:韩国券商Hana Securities基于中国调研认为,长江存储YMTC将在今年12月而非明年3月上市。

2.属于产业链哪个环节:YMTC是3D NAND闪存制造商,对应晶圆制造和测试封装环节。

3.可能影响的公司或赛道:影响存储市场格局,对【三星、SK海力士、美光】形成竞争压力。

4.为什么值得关注:IPO将影响存储芯片资本开支与产能扩张节奏,新人可关注存储芯片从晶圆制造到封测的完整流程。

[1]

技术进展

SemiWiki介绍无掩模EUV光刻作为电子束直写替代方案

1.发生了什么:SemiWiki发布文章介绍无掩模EUV光刻技术,作为电子束直写的替代方案,旨在提升图形转移效率。

2.属于产业链哪个环节:直接影响光刻步骤(第6步),减少对传统掩模的依赖。

3.可能影响的公司或赛道:若成熟将影响ASML等光刻机巨头及掩模供应链(Photronics、Toppan等)。

4.为什么值得关注:光刻是芯片制造最核心、最昂贵步骤之一,无掩模技术若突破可大幅降低成本,新人可理解光刻如何定义芯片图形。

[2]

CPO可靠性从争论转向数据:META系统1.35M小时零故障

1.发生了什么:摩根士丹利OCP回顾显示META实验室CPO系统在135万系统小时内零非可服务故障,中断率比可插拔光模块改善6倍;LightCounting预计2031年CPO/NPO占3.2T端口出货75%;LITE的ELSFP激光模块已量产。

2.属于产业链哪个环节:涉及先进封装和光互连,对应封装步骤(第15步),将光引擎与芯片共封装。

3.可能影响的公司或赛道:利好光模块/激光器供应商【Lumentum、Coherent】,测试需求利好Keysight,冲击传统可插拔光模块厂商。

4.为什么值得关注:CPO是解决AI数据中心功耗与带宽瓶颈的关键技术,可靠性数据是规模部署前提,新人可理解封装如何从保护芯片演变为集成功能。

[3]

供应链变化

ASML台湾Q3系统销售同比增61%,光刻设备进口激增

1.发生了什么:Bernstein报告显示ASML3Q26台湾系统销售达€2.69B,同比+61%,环比+36%,占系统销售32%;台湾光刻设备进口€2.13B,环比+46%。

2.属于产业链哪个环节:直接对应光刻步骤(第6步),是晶圆制造最核心的设备采购。

3.可能影响的公司或赛道:反映台积电等晶圆厂扩产力度,利好ASML及配套设备/材料供应商。

4.为什么值得关注:光刻机是芯片制造的“皇冠”,销售数据是行业景气先行指标,新人可关注设备销售如何预示未来产能释放。

[4]

市场与需求

市场观点:先进制程迁移单向性保护台积电,成熟制程满产显示景气未退

1.发生了什么:LIWEI_TW Capital指出芯片节点迁移是单向的,客户不会从2nm/3nm降回8nm;即使周期反转,先进制程代工厂受冲击晚于成熟制程。UMC产能利用率Q3预计超90%,8英寸业务恢复。

2.属于产业链哪个环节:涉及晶圆制造全流程,区分先进制程与成熟制程的不同需求。

3.可能影响的公司或赛道:利好台积电等先进制程主导者,成熟制程代工厂如联电短期满产但长期风险高;AI外溢需求支撑PMIC、传感器等芯片。

4.为什么值得关注:理解制程节点“只进不退”的逻辑,有助于新人把握不同代工厂的竞争壁垒和周期敏感性。

[5]