本期聚焦ASML下一代Hyper NA EUV技术挑战5nm单次曝光,以及台积电与三星代工业绩明显分化;先进封装侧,AI载板扩产瓶颈转向设备,玻璃基板TGV电镀需求升温。

厂商动态

台积电3Q26营收年增逾50%,三星非记忆体估亏2兆韩元

1.发生了什么:台积电2026年第3季营收年增逾50%;三星非记忆体业务仅年增约5%,估亏2兆韩元。2.环节:晶圆代工,覆盖前道制造全流程。

3.可能影响的公司或赛道:台积电、三星及高通、英伟达等先进制程客户。

4.为什么值得关注:代工双雄分化加剧,三星亏损或影响先进制程投资与客户下单信心。

[4]

AI内存扩产加码:南亚科建3D封测厂,SK集团喊话加速投资

1.发生了什么:南亚科获利创新高,LTA覆盖率约50~70%并规划屏东3D封测厂;SK集团会长崔泰源在上海呼吁加速存储扩产,避免市占流失。2.环节:DRAM制造与封装测试(第15/16步),涉及TSV与晶圆堆叠。

3.可能影响的公司或赛道:南亚科、SK海力士、美光、中国存储厂及先进封装设备商。

4.为什么值得关注:AI内存需求推动长约与自建封装趋势,竞争从晶圆扩产延伸到3D封装。

[5] [6]

Musk排除台积电主导Terafab,英特尔14A合作不变

1.发生了什么:Musk澄清德州Terafab晶圆厂将自行兴建营运,台积电仅能分租部分厂区;英特尔CEO陈立武重申14A合作不变。2.环节:晶圆厂建设与前道制造,涉及代工运营模式。

3.可能影响的公司或赛道:特斯拉/xAI、台积电、英特尔及ASML等设备商。

4.为什么值得关注:主导权归属影响美国先进制造格局,台积电角色降为租户,英特尔14A仍是关键合作节点。

[7]

技术进展

ASML与蔡司发表Hyper NA技术,挑战5纳米单次曝光

1.发生了什么:ASML与蔡司发文揭露下一代Hyper NA EUV技术,目标实现5nm单次曝光。2.环节:光刻(第6步)。

3.可能影响的公司或赛道:ASML、蔡司、台积电、三星等先进制程厂。

4.为什么值得关注:可减少多重曝光次数,提升良率与效率,但设备复杂度与成本更高。

[1]

供应链变化

韩国YMT玻璃基板电镀产能拟增至4倍,TGV需求升温

1.发生了什么:韩国YMT加快玻璃基板电镀布局,2026年底前产能拟增至约【4倍】,应对TGV需求。2.环节:封装(第15步)与玻璃通孔电镀。

3.可能影响的公司或赛道:三星电机、台湾基板厂商、YMT。

4.为什么值得关注:玻璃基板是AI芯片下一代封装载体,TGV电镀是核心工艺,扩产反映需求能见度提高。

[2]

AI载板材料缺货趋缓,先进制程设备成扩产新瓶颈

1.发生了什么:AI加速器客户增多,快速消耗IC载板产能,缺料焦点从铜箔基板(CCL)转向高阶制程设备。2.环节:封装(第15步)相关载板制造与设备供应。

3.可能影响的公司或赛道:IC载板厂、CCL材料商、先进封装设备供应商。

4.为什么值得关注:设备成为新瓶颈将拉长扩产周期,可能制约AI芯片封装供给。

[3]