本期聚焦先进封装热管理与High-NA EUV两大技术突破:铜/金刚石复合材料热导率翻倍至800 W/m·K,台积电携手ASML推进12英寸光罩;同时三星HBM4传2027年报价翻倍,美国对CPO和垂直供电的贸易管控升温。

技术进展

铜/金刚石复合材料亮相,先进封装热管理热导率翻倍

1.发生了什么:SemiAnalysis指出铜在先进封装散热中触顶,Semicon Taiwan展出Cu/diamond复合材料,热导率从约400 W/m·K提升至约800 W/m·K,CTE可调至6–10 ppm/K。

2.属于产业链哪个环节:第15步封装,用于AI芯片/HBM散热与抗翘曲。

3.可能影响的公司或赛道:先进封装材料商、台积电CoWoS、三星/SK海力士HBM、AI加速器厂。

4.为什么值得关注:散热成AI封装瓶颈,该材料可显著降热点和翘曲;但Cu与金刚石需Ti/Cr/Mo/W碳化物键合层,PVD/CVD预涂控制界面厚度是关键。

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台积电携ASML推进High-NA EUV 12英寸光罩,分辨率进入8nm

1.发生了什么:DIGITIMES Research分析,High-NA EUV将NA从0.33提高到0.55,单次曝光分辨率由约13nm推进至8nm;台积电携手ASML推进12英寸光罩,以全幅视野和成本决定主流化。

2.属于产业链哪个环节:第6步光刻及光罩制备,影响2nm及以下制程。

3.可能影响的公司或赛道:ASML、台积电、EUV光罩与光刻胶供应商。

4.为什么值得关注:分辨率提升但景深缩小、光阻薄化及制程控制难度同步增加;12英寸光罩有助降本,是先进制程关键路径。

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Terafab确认2027年中接收首台ASML EUV光刻机,X射线路线被否

1.发生了什么:Tim Culpan称Terafab将在2027年中收到首台ASML EUV光刻机,并认为其无法绕过ASML EUV,X射线光刻不成立。

2.属于产业链哪个环节:第6步光刻,前道核心设备。

3.可能影响的公司或赛道:ASML、Terafab/Intel及潜在合作方台积电。

4.为什么值得关注:继此前Intel深度参与Terafab爆料后,此次确认其先进制程仍采用EUV路线,ASML设备垄断地位延续。

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政策与贸易

Vicor再告台厂,USITC启动垂直供电337调查

1.发生了什么:Vicor年内二度提告,USITC投票通过对垂直供电(VPD)系统、相关元件及搭载这些系统的运算设备启动337调查,鸿海、广达、台达电被点名。

2.属于产业链哪个环节:系统级电源架构,涉及功率半导体与AI服务器供电模块,对应功率元件制造和系统集成。

3.可能影响的公司或赛道:Vicor、鸿海、广达、台达电及其他服务器电源供应商。

4.为什么值得关注:若裁定侵权,可能实施进口限制,扰乱AI服务器电源供应链并加速电源方案替代。

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美国65%本土含量门槛成CPO销美变量,光模块价值链或重配

1.发生了什么:市场关注“65%美国含量”或成销美CPO门槛,若美国实施供应链管制,恐牵动光模块价值链重分配。

2.属于产业链哪个环节:第15步封装/光互连——CPO将光学引擎与交换芯片共封装,是AI数据中心3.2T互连关键。

3.可能影响的公司或赛道:中国光模块厂商、美国数据中心客户、CPO芯片与封装设备供应商。

4.为什么值得关注:AI高速网络升级使CPO需求上升,本土含量要求或迫使中国光模块厂调整供应链,改变全球光通信格局。

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市场与需求

三星HBM4传2027年报价翻倍,欲超SK海力士

1.发生了什么:三星HBM4有望成为出货主力,传力拼2027年HBM报价翻倍、每Gb上看5美元;分析师预测三星2027年出货量或营收有机会超越SK海力士。

2.属于产业链哪个环节:存储芯片制造+先进封装(TSV/HBM堆叠,对应第15步)。

3.可能影响的公司或赛道:三星、SK海力士、英伟达等AI客户、HBM封测设备/材料商。

4.为什么值得关注:HBM是AI训练关键存储,价格翻倍推升服务器成本;三星若反超将改变供应格局。

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