本期聚焦多die/3D互连验证、化合物半导体外延片供应链、AI数据中心光学连接政策风险,以及2D半导体新材料进展。

技术进展

PCIe 6.0与AMBA一致性协议推动多die/3D互连验证

1.发生了什么:Semiconductor Engineering分别报道在3D多die测试芯片中验证PCIe 6.0连接,以及在UCIe互连上实现AMBA一致性协议以构建多die系统。

2.属于产业链哪个环节:先进封装后的互连验证与协议设计,对应封装与测试(步骤15、16)。

3.可能影响的公司或赛道:Chiplet/IP供应商、先进封装厂(台积电、三星、英特尔)、PCIe/UCIe控制器设计公司。

4.为什么值得关注:多die系统要像单芯片一样工作,必须解决高速连接和【一致性协议】问题;这两篇文章提供了工程化的验证思路,对AI/HPC芯片设计有直接参考价值。

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普林斯顿研发出光可编程2D半导体,有望降低功耗

1.发生了什么:普林斯顿大学研究人员开发出一种只有几个分子厚的2D半导体,可在光照下反复改变材料性质。

2.属于产业链哪个环节:前沿材料研究,未来可能用于晶体管沟道/薄膜沉积(步骤5、6)。

3.可能影响的公司或赛道:二维材料研究机构、先进晶体管/传感器/光电器件厂商。

4.为什么值得关注:传统半导体通过化学掺杂固定性质,这种光可编程特性为更节能的传感器和计算芯片提供了新路径,但距离量产还需很多工艺验证。

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芯片热分析从晶体管扩展到数据中心,应对Chiplet功率密度

1.发生了什么:Semiconductor Engineering文章指出功率密度上升和Chiplet复杂度使热分析必须更早介入设计流程,从晶体管到数据中心全面热仿真。

2.属于产业链哪个环节:封装级与系统级热管理,对应封装(步骤15)和系统集成。

3.可能影响的公司或赛道:EDA工具厂商、Chiplet/先进封装设计公司、AI芯片/数据中心系统厂商。

4.为什么值得关注:多die封装让局部热密度剧增,热问题会成为Chiplet和AI芯片的良率与寿命瓶颈,提前做热分析可减少设计返工。

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Rambus推出PCIe 7交换机IP,用TDM提升AI连接带宽

1.发生了什么:Rambus发布PCIe 7交换机IP,采用时分复用(TDM)技术,面向下一代AI网络接口卡和超级网卡。

2.属于产业链哪个环节:芯片内部/芯片间高速互连IP,属于设计/封装互连环节。

3.可能影响的公司或赛道:Rambus、AI加速卡/网卡厂商、数据中心互连芯片公司。

4.为什么值得关注:AI集群对连接带宽需求持续翻倍,PCIe 7配合时分复用可提升交换机芯片的端口密度与效率,是AI互连演进的重要IP方案。

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供应链变化

住友化学将为Aeluma供应外延片,强化化合物半导体供应链

1.发生了什么:住友化学先进技术(SCAT)宣布为Aeluma提供外延片(epiwafers),支持其面向AI、移动、国防和量子等领域的高性能半导体。

2.属于产业链哪个环节:外延片制备,对应核心流程中的晶圆制备/薄膜沉积(外延生长)。

3.可能影响的公司或赛道:化合物半导体外延片供应商、AI光电芯片、国防/量子芯片设计公司。

4.为什么值得关注:外延片决定化合物半导体的材料质量与良率,该合作显示化合物半导体外延片供应链正在扩展,尤其是AI和量子等新兴需求拉动。

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政策与贸易

FCC拟限制光学连接设备进口,或拖慢AI数据中心建设

1.发生了什么:EE Times报道美国联邦通信委员会(FCC)可能出台规则,限制进口光学网络设备,可能迫使云厂商面临关键短缺。

2.属于产业链哪个环节:数据中心光互连(光模块/光器件),影响AI芯片集群的网络连接环节。

3.可能影响的公司或赛道:光学模块/器件供应商、云厂商、光通信芯片公司。

4.为什么值得关注:AI大集群越来越依赖光学互连来连接加速器,若进口受限,可能拖累AI数据中心扩张,并改变设备供应链布局。

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