1.发生了什么:Intel Foundry与ASML在SPIE会议上宣布High-NA EUV已从开发工具转为生产工具,Intel已处理数万片晶圆;台积电、三星与ASML启动12英寸光掩模计划。
2.属于产业链哪个环节:直接对应光刻步骤,并延伸至掩模制造与检测。
3.可能影响的公司或赛道:ASML、Intel、台积电、三星及光刻胶、掩模基板供应商。
4.为什么值得关注:High-NA EUV是2nm及以下节点的关键,12英寸掩模可提高效率降低成本,是先进制程竞赛核心变量。
[1] [2] [3] [4] [5]