1.发生了什么:中国存储产业形成分进合击局面,长鑫存储攻DRAM、长江存储拼3D NAND、武汉新芯聚焦NOR,各自突破。
2.属于产业链哪个环节:属于【存储芯片制造】,涉及晶圆制造、设计、封装测试全流程。
3.可能影响的公司或赛道:长鑫存储、长江存储、武汉新芯,以及三星、SK海力士、美光等国际存储大厂。
4.为什么值得关注:中国存储从“缺一家能打的本土大厂”转向多线突进,可能改变全球存储供应格局及技术路线竞争。
[8]本期重点聚焦先进封装与CPO瓶颈:台积电CoWoS排至2027年、英特尔EMIB-T抢当备胎,CPO量产测试前移至晶圆阶段;同时设备供不应求反映AI扩产潮,韩美半导体打入台系、辛耘订单排到2028;中国存储多线突围。
1.发生了什么:中国存储产业形成分进合击局面,长鑫存储攻DRAM、长江存储拼3D NAND、武汉新芯聚焦NOR,各自突破。
2.属于产业链哪个环节:属于【存储芯片制造】,涉及晶圆制造、设计、封装测试全流程。
3.可能影响的公司或赛道:长鑫存储、长江存储、武汉新芯,以及三星、SK海力士、美光等国际存储大厂。
4.为什么值得关注:中国存储从“缺一家能打的本土大厂”转向多线突进,可能改变全球存储供应格局及技术路线竞争。
[8]1.发生了什么:供应链人士指出CPO下个真正量产瓶颈是“把测试往前移”,在晶圆阶段就找出光学缺陷并控制良率。
2.属于产业链哪个环节:属于测试环节,但前移到晶圆制造阶段,接近光刻/检测步骤。
3.可能影响的公司或赛道:CPO设备商、光学检测设备商、代工厂。
4.为什么值得关注:CPO进入量产前关键阶段,良率控制从封装后提前到晶圆阶段,将重塑设备供应链模式。
[3]1.发生了什么:Gigaphoton将在SPIE光掩模技术会议上展示EUV光源用于actinic掩模检测的最新进展。
2.属于产业链哪个环节:属于光刻步骤中的掩模检测,光源技术直接影响EUV光刻良率。
3.可能影响的公司或赛道:EUV光刻机生态、掩模厂、先进制程晶圆厂。
4.为什么值得关注:EUV掩模缺陷检测是保证良率的关键,actinic光源(与EUV曝光同波长)能更真实反映掩模缺陷,助力先进制程量产。
[7]1.发生了什么:辛耘副董表示客户需求及订单能见度持续提升,订单已排到2028年,2026年自製设备出货量预计较去年大增。
2.属于产业链哪个环节:属于设备供应,涵盖清洗、薄膜沉积、CMP等多个前道步骤。
3.可能影响的公司或赛道:辛耘、台积电、三星、SK海力士等芯片制造商。
4.为什么值得关注:设备交期拉长且供不应求,反映AI/HPC扩产潮下设备采购成为瓶颈,明年供应商甚至“忍痛挑客户”。
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