本期重点关注DRAM领域的双重动态——特斯拉Terafab自研DRAM产线招聘工程师,以及【南亚科】豪掷107亿美元押注10nm级工艺与EUV;同时,谷歌因算力分配矛盾加剧人才流失,混合键合技术在先进封装领域取得新进展。

厂商动态

特斯拉为自研DRAM产线招聘,布局AI与自动驾驶芯片垂直整合

1. 特斯拉发布招聘信息,为其Terafab工厂招募内存工艺工程师,马斯克被曝优先推进DRAM项目。

2. 属于产业链晶片制备到掺杂等多个前道环节,旨在自研自产内存芯片。

3. 可能影响传统DRAM供应商如三星SK海力士的长期订单预期,同时利好半导体设备商。

4. 若成功量产,意味着特斯拉将从设计走向制造,实现AI与自动驾驶芯片的完全垂直整合,改变车规级芯片供应链格局。

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技术进展

南亚科宣布107亿美元投资计划,引入EUV工艺进军10nm级DRAM

1. 台湾DRAM制造商【南亚科】启动2026-2029年107亿美元投资计划,将10nm级工艺EUV光刻导入新一代晶圆厂。

2. 此项扩产涉及光刻环节的EUV设备引入以及后续的【蚀刻】、薄膜沉积等全流程升级。

3. 直接利好EUV设备商ASML,且加剧与三星SK海力士等头部厂商在先进DRAM领域的竞争。

4. 作为全球第四大DRAM厂,南亚科押注EUV将大幅缩小技术代差,但巨额投资也带来了财务与产能消化的高风险。

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ECTC会议聚焦混合键合技术,指明3D堆叠与异构集成核心方向

1. 在ECTC会议上,行业专家报告了混合键合技术的最新进展,该技术是实现芯片3D垂直堆叠的关键。

2. 属于后道封装环节中的前沿工艺,能实现裸片间微米级无凸点互连,极大提升I/O密度。

3. 台积电英特尔等先进封装技术领先者,以及Besi等键合设备商将直接受益于此技术演进。

4. 对于AI/高性能计算,该技术可打破内存墙瓶颈,实现【HBM与逻辑芯片】的更紧密集成,是延续摩尔定律的重要路径。

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谷歌算力分配矛盾激化,AI人才流失恐拖累TPU与模型研发速度

1. CNBC报道,谷歌内部研究人员因获不到足够算力资源而倍感沮丧,尤其是公司一边向外部出售TPU,一边却内部限制。

2. 此事影响AI芯片的设计、应用与迭代环节,反映出大型科技公司内部算力资源分配的战略困境。

3. 可能削弱谷歌Gemini模型的开发速度,并间接利好竞争对手如Anthropic和采用NVIDIA GPU的外部生态。

4. 伴随“Transformer论文八子”全部离职,核心人才持续流失,表明即使拥有强大的芯片设计能力,内部运营僵化也可能拖累AI竞争力。

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市场与需求

Wolfspeed合作开发数据中心SiC电源,AI基建拉动第三代半导体需求

1. Wolfspeed与电源大厂LITEON合作,为超大规模AI数据中心开发基于SiC(碳化硅)器件的800VDC电源方案。

2. 属于晶片制备(SiC衬底)和掺杂等环节,是宽禁带半导体在高压功率转换中的典型应用。

3. 利好SiC衬底和器件供应商,尤其在AI服务器电源功耗飙升至700W以上的背景下,高效散热方案需求迫切。

4. 数据中心从传统硅基电源转向SiC,可大幅降低能量损耗,这是AI基建爆发对功率半导体提出的明确技术升级需求。

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