1. 特斯拉发布招聘信息,为其Terafab工厂招募内存工艺工程师,马斯克被曝优先推进DRAM项目。
2. 属于产业链晶片制备到掺杂等多个前道环节,旨在自研自产内存芯片。
3. 可能影响传统DRAM供应商如三星、SK海力士的长期订单预期,同时利好半导体设备商。
4. 若成功量产,意味着特斯拉将从设计走向制造,实现AI与自动驾驶芯片的完全垂直整合,改变车规级芯片供应链格局。
[1]本期重点关注DRAM领域的双重动态——特斯拉为Terafab自研DRAM产线招聘工程师,以及【南亚科】豪掷107亿美元押注10nm级工艺与EUV;同时,谷歌因算力分配矛盾加剧人才流失,混合键合技术在先进封装领域取得新进展。
1. 特斯拉发布招聘信息,为其Terafab工厂招募内存工艺工程师,马斯克被曝优先推进DRAM项目。
2. 属于产业链晶片制备到掺杂等多个前道环节,旨在自研自产内存芯片。
3. 可能影响传统DRAM供应商如三星、SK海力士的长期订单预期,同时利好半导体设备商。
4. 若成功量产,意味着特斯拉将从设计走向制造,实现AI与自动驾驶芯片的完全垂直整合,改变车规级芯片供应链格局。
[1]1. 台湾DRAM制造商【南亚科】启动2026-2029年107亿美元投资计划,将10nm级工艺和EUV光刻导入新一代晶圆厂。
2. 此项扩产涉及光刻环节的EUV设备引入以及后续的【蚀刻】、薄膜沉积等全流程升级。
3. 直接利好EUV设备商ASML,且加剧与三星、SK海力士等头部厂商在先进DRAM领域的竞争。
4. 作为全球第四大DRAM厂,南亚科押注EUV将大幅缩小技术代差,但巨额投资也带来了财务与产能消化的高风险。
[2]1. 在ECTC会议上,行业专家报告了混合键合技术的最新进展,该技术是实现芯片3D垂直堆叠的关键。
2. 属于后道封装环节中的前沿工艺,能实现裸片间微米级无凸点互连,极大提升I/O密度。
3. 台积电、英特尔等先进封装技术领先者,以及Besi等键合设备商将直接受益于此技术演进。
4. 对于AI/高性能计算,该技术可打破内存墙瓶颈,实现【HBM与逻辑芯片】的更紧密集成,是延续摩尔定律的重要路径。
[3]