铠侠启动第10代3D NAND量产,英伟达SOCAMM2内存供应不足被迫削减配置,EUV光刻机交期拉长至3年以上限制扩产。

供应链变化

Veeco MOCVD系统获InP激光器制造订单,化合物半导体设备需求升温

1. 发生了什么:Veeco的LUMINA+ MOCVD设备被一家全球光子技术领导厂商选中,用于制造【InP激光器】。

2. 属于产业链哪个环节:薄膜沉积中的【金属有机化学气相沉积(MOCVD)】,是化合物半导体外延层生长的关键步骤。

3. 可能影响的公司或赛道:设备商Veeco,InP激光器制造厂商,以及数据中心高速光模块供应链。

4. 为什么值得关注:AI驱动数据中心内部光通信需求激增,InP激光器作为高速传输的核心器件,其产能投资正在提速,MOCVD设备订单是产业信心的重要指标。

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存储厂商LTA份额突破50%成为新常态,闪迪加入高长协阵营

1. 发生了什么:闪迪的NBM合约已实现约80%毛利率,长期协议(LTA)预计将在FY27覆盖过半位元出货,FY28进一步升至三分之二。

2. 属于产业链哪个环节:存储芯片的销售与产能分配,影响整个封装测试和最终产品交付节奏。

3. 可能影响的公司或赛道:闪迪三星SK海力士巩固利润,下游客户如苹果、服务器OEM面临更刚性的采购条款。

4. 为什么值得关注:存储行业正在复制硅晶圆的长约锁定模式,在产能紧缺背景下,供应商通过高比例LTA锁定利润和产能,买方议价空间进一步收窄。

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华邦电因EUV光刻机交期长达3年削减资本支出

1. 发生了什么:华邦电将2026年资本支出从405亿新台币下调至395亿新台币,主因EUV光刻机交期拉长至3至3.5年。

2. 属于产业链哪个环节:核心在光刻步骤,是决定晶圆厂扩产节奏的关键设备。

3. 可能影响的公司或赛道:设备供应商ASML的交期瓶颈将延后华邦电及所有依赖EUV的晶圆厂产能上线。

4. 为什么值得关注:即使对不主打最先进逻辑制程的存储厂,EUV交期延长也直接限制了制程升级和产能扩张,这种供给刚性会持续影响全球芯片供给。

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市场与需求

铠侠开始量产第10代3D NAND BiCS10,推动存储密度提升

1. 发生了什么:铠侠在岩手县K2工厂启动BiCS10第10代3D NAND的量产,标志着新一代高密度闪存进入规模供应阶段。

2. 属于产业链哪个环节:存储芯片制造,涉及3D堆叠中的薄膜沉积、蚀刻及封装测试等多道工艺循环。

3. 可能影响的公司或赛道:直接影响铠侠闪迪,并加剧数据中心/手机/NAND市场的竞争。

4. 为什么值得关注:3D NAND层数越高位密度越大,每GB成本更低,有助于AI服务器和终端设备扩大存储容量,而量产时间点也可能解释前期两家公司财报不及预期的原因。

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英伟达因SOCAMM2供应受限,被迫下调Vera Rubin内存配置

1. 发生了什么:英伟达将SOCAMM2配置从192GB骤降至64GB,原因是存储器供应商只能满足60-70%的需求量,而非需求不足。

2. 属于产业链哪个环节:先进封装与内存模块集成,直接对应封装和DRAM制造环节,SOCAMM2是一种高密度LPDDR5X内存模块。

3. 可能影响的公司或赛道:英伟达的AI服务器系统性能受限,SK海力士三星美光的SOCAMM供应能力受到考验,同时可能影响采用类似方案的AMDMI450。

4. 为什么值得关注:AI算力对内存带宽和容量的需求远超当前供给能力,供应链瓶颈正在倒逼系统架构妥协,也让HBM等高价值内存的地位进一步强化。

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三星发布zNAND-O高带宽闪存,瞄准边缘AI推理

1. 发生了什么:三星在FMS展会上推出zNAND-O技术,将高带宽闪存引入边缘AI应用场景。

2. 属于产业链哪个环节:存储芯片设计与创新应用,涉及NAND Flash架构改进及与处理器的融合层面。

3. 可能影响的公司或赛道:【高通】和谷歌已开始评估,若成本可行,可能用于智能手机等终端设备的AI加速。

4. 为什么值得关注:目前AI推理多依赖HBM或LPDDR,高带宽闪存若能平衡性能与成本,可能改变边缘设备的存储子系统,开辟NAND在AI领域的新角色。

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