1. SK海力士与SanDisk发布首版HBF(高带宽闪存)标准,容量最高512GB,带宽0.4–3.0TB/s,用于AI推理/训练
2. HBF聚焦近存储计算和内存池化,属于先进封装和高性能计算架构层面的新方案
3. GoogleDeepMind、Tenstorrent等已加入HBF联盟,未来可能分流部分HBM需求
4. 产业意义:HBF试图提供【HBM之外的另一AI内存路径】,成本与容量灵活性更高,可能改变AI加速器设计
[4] [5] [6] [7]本周半导体行业重磅密集:AI驱动下HBM/DDR5产能2027年已售罄,内存供应危机向手机/PC蔓延;【SK海力士与SanDisk发布HBF标准】,AI内存生态添新变量;封装领域台积电CoWoS-L首次引入有源LSI桥与英特尔EMIB-T成本低50%形成路线竞速;中国国产DDR5-7200内存实现突破,芯片专利新政亦将落地。
1. SemiAnalysis确认AMD MI455为已知首款采用有源Local Silicon Interconnect (LSI)桥的芯片,位于CoWoS-L封装内
2. 该技术属先进封装(第15步)中硅桥的革新——从无源走线升级为带信号中继器的有源电路,分担上下芯片PHY负担
3. 直接影响台积电CoWoS-L产能与客户导入,AMD成为先行者,未来NVIDIA、Broadcom等或跟进
4. 新人可理解为:在芯片封装内部的“桥梁”里加装了微型信号放大器,让CPU/GPU能腾出更多面积给计算单元,性能提升
[8]1. 英特尔EMIB-T先进封装方案成本仅为台积电CoWoS一半,目前良率已超90%但基板良率仍在50%瓶颈
2. 该方案属于封装步骤(第15步),用嵌入式硅桥实现芯片互连,联电供应硅桥,力积电独家供应硅电容
3. 【联发科】AI ASIC项目已导入,Google TPU可能采用,【博通】、Meta正评估中
4. 值得关注的是,EMIB-T正成为CoWoS之外的有力替补,有助于英特尔代工业务抢夺先进封装客户
[9]1. 中国修订《集成电路布图设计保护条例》,自10月15日起要求芯片版图专利申请提交原创声明及蓝图
2. 这属于芯片设计(版图/布局)环节的知识产权规则收紧,旨在遏制抄袭
3. 影响所有在华申请版图保护的芯片设计公司,包括海外半导体巨头及本土企业
4. 预期将增加专利审查透明度,但也可能提升企业申请难度与商业机密风险,值得法务部门重点关注
[11]1. 雷克沙发布DDR5-7200内存条,采用中国国产DRAM芯片,意味着本土DRAM已能支撑高端模组级产品
2. 涉及晶圆制造(DRAM设计/工艺)及后道测试封装,具体制造商未透露,但可能与【合肥长鑫】产能相关
3. 若大规模量产,可能影响全球内存供应链格局,尤其对三星、SK海力士、美光的中高端DDR5份额
4. 新人理解:这是中国DRAM从“能用”到“高性能”的标志性突破,未来手机/PC/服务器都可能用上国产内存
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