1. 发生了什么:德国雷射大厂Trumpf(创浦)指出,全球对High-NA EUV光刻设备需求飙升,未来两年是成为主流的关键期,且来自韩国的需求增速已超台湾。
2. 产业链环节:属于光刻步骤(第6步)。High-NA EUV是制造2nm及以下芯片的关键设备光源。
3. 影响公司/赛道:ASML是该设备唯一生产商,正联手Trumpf扩产;三星等韩国存储/逻辑大厂正大力采购以争夺先进节点。
4. 新人解释:简单讲,要在指甲盖大小的芯片上刻出更精密的电路,需要“极紫外光”。High-NA是新一代更厉害的“光源技术”,能刻出更细的线,是延续摩尔定律的希望。
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