1. 发生什么:Nikon新任社长表示,将以更低价格提供ArF光刻设备,正面挑战市占率超八成的ASML。
2. 产业链环节:直击光刻环节(第6步),ArF光源主要用于成熟制程到先进制程的多重曝光关键层。
3. 影响公司:Nikon(求份额)、ASML(守份额),对成本敏感的晶圆代工厂(如中芯国际、联电、格芯)可能增加议价筹码。
4. 新人解读:光刻机并非全用EUV,ArF机型(特别是浸没式)大量用于7nm至28nm等节点。Nikon打价格战意在打破ASML的绝对垄断,给二线晶圆厂多一个选择。
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