1.美光表示自三月财报电话会以来,受AI需求和存储器定价支撑,前景更加乐观。2.美光同时确认,台积电将为标准及定制HBM4E生产逻辑芯片,标志着HBM产业分工出现新变化。3.该合作将加深美光与台积电在AI内存领域的捆绑,可能影响HBM4E供应链格局,英伟达等最终客户将受益。4.这反映出AI服务器对高带宽内存的渴求仍在加剧,存储原厂通过与先进逻辑代工厂结盟来增强HBM竞争力,产业链价值重新分配。
[4] [5]本周半导体产业在先进封装、光学互连和功率器件领域密集突破:业界探索用光互连将HBM与GPU分离封装以打破“内存墙”;ASMLHigh-NA EUV设备交付加速2nm演进;美光因AI需求上调展望,台积电为其HBM4E供应逻辑芯片;SiC与GaN功率器件新品瞄准数据中心能效。
1.根据行业周报,ASML最新High-NA EUV光刻设备已向客户交付,用于2nm及以下节点试产。
2.属于光刻环节(步骤6),是实现更小线宽的关键机台,数值孔径从0.33提升至0.55。3.将影响台积电、三星、英特尔等先进制程玩家,也将带动光刻胶、掩模版等相关材料需求。4.High-NA EUV每台售价超3亿欧元,是延续摩尔定律的“国之重器”,其交付进度决定了2nm工艺的量产时间表。
[3]1.BluGlass宣布其单模GaN激光器实现1.9W峰值光输出,刷新业界记录。
2.属于化合物半导体器件制造,涉及MOCVD外延和芯片加工工艺,对应流程地图的薄膜沉积等步骤。3.该突破有望提升激光显示、生物医疗及工业材料加工的光源性能,强化GaN光电器件生态。4.GaN激光器在高亮度场景替代传统激光源的潜力逐渐显现,功率密度的提升是商业化关键,该纪录标志着技术成熟度再进一步。
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