本周半导体产业在先进封装光学互连功率器件领域密集突破:业界探索用光互连将HBMGPU分离封装以打破“内存墙”;ASMLHigh-NA EUV设备交付加速2nm演进;美光因AI需求上调展望,台积电为其HBM4E供应逻辑芯片;SiCGaN功率器件新品瞄准数据中心能效。

厂商动态

美光财务展望转为强劲,确认台积电为HBM4E制造逻辑芯片

1.美光表示自三月财报电话会以来,受AI需求和存储器定价支撑,前景更加乐观。2.美光同时确认,台积电将为标准及定制HBM4E生产逻辑芯片,标志着HBM产业分工出现新变化。3.该合作将加深美光与台积电在AI内存领域的捆绑,可能影响HBM4E供应链格局,英伟达等最终客户将受益。4.这反映出AI服务器对高带宽内存的渴求仍在加剧,存储原厂通过与先进逻辑代工厂结盟来增强HBM竞争力,产业链价值重新分配。

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技术进展

ASML高数值孔径EUV光刻机完成交付,助力2nm以下工艺研发

1.根据行业周报,ASML最新High-NA EUV光刻设备已向客户交付,用于2nm及以下节点试产。

2.属于光刻环节(步骤6),是实现更小线宽的关键机台,数值孔径从0.33提升至0.55。3.将影响台积电三星英特尔等先进制程玩家,也将带动光刻胶、掩模版等相关材料需求。4.High-NA EUV每台售价超3亿欧元,是延续摩尔定律的“国之重器”,其交付进度决定了2nm工艺的量产时间表。

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SiC功率模块加速渗透:Wolfspeed与东芝针对数据中心和高压市场推新品

1.Wolfspeed推出3.3kV碳化硅功率模块,采用工业标准封装;东芝启动1200V沟槽栅SiC MOSFET样品出货,主攻AI数据中心电源。

2.属于功率半导体器件制造,对应薄膜沉积和器件加工等前道步骤,并涉及封装环节。3.影响SiC衬底和外延供应商,以及数据中心电源、电网设备等下游市场,加速对传统IGBT的替代。4.随着AI算力中心功耗密度持续攀升,更高效率的SiC功率芯片成为降本增效关键,SiC在数据中心的渗透率有望快速拉升。

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英飞凌主导欧洲“Moore4Power”项目启动,整合产学研推动功率半导体颠覆创新

1.英飞凌牵头的欧洲摩尔4功率项目正式启动,聚焦超越摩尔定律的功率半导体颠覆性技术。2.该项目将整合欧洲从材料、设备到器件制造的产学研资源,覆盖SiCGaN等宽禁带半导体和新拓扑结构。3.有助于提升英飞凌、意法半导体及欧洲设备材料商的竞争力,对欧洲半导体自主化具有战略意义。4.面对中美在功率领域的投入,欧洲通过联盟方式巩固其汽车和工业功率芯片的全球领先地位,值得长期跟踪。

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BluGlass创单模GaN激光器1.9W峰值功率记录,拓展高亮应用

1.BluGlass宣布其单模GaN激光器实现1.9W峰值光输出,刷新业界记录。

2.属于化合物半导体器件制造,涉及MOCVD外延和芯片加工工艺,对应流程地图的薄膜沉积等步骤。3.该突破有望提升激光显示、生物医疗及工业材料加工的光源性能,强化GaN光电器件生态。4.GaN激光器在高亮度场景替代传统激光源的潜力逐渐显现,功率密度的提升是商业化关键,该纪录标志着技术成熟度再进一步。

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供应链变化

光学互连方案浮现,GPU与HBM或走向分离封装,华为加码国产光芯片

1.行业正评估将GPUHBM分开封装,用光学互连突破GPU芯片周边“海岸线”物理限制,可安装数倍于目前的HBM。

2.属于产业链中的封装环节(步骤15),需将传统数据中心光互连器件微型化至芯片间,对共封装光学(CPO)提出极高要求。3.直接影响SK海力士三星美光等HBM大厂,以及英伟达、AMD等GPU厂商和OSAT封测厂;华为旗下哈勃投资国内InP光学芯片公司Milphoton,布局AI互连。4.这是打破AI算力“内存墙”的架构级变革,用光子替代电子传输,有望成倍提升AI加速器内存带宽与容量,但微型光器件量产难度极高。

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