1.发生了什麼:台积电公布N2已量产,产能扩展CAGR 70%,良率学习曲线比N3同期领先2个季度;A14节点256Mb SRAM良率突破80%,性能提升10-15%;下一代CFET架构可将SRAM面积缩减30%;CoWoS封装良率达98%,正向14倍光罩尺寸扩展。
2.属于产业链哪个环节:主要涉及光刻和先进封装环节,N2和A14使用Nanosheet/CFET晶体管,CoWoS对应后端封装。
3.可能影响的公司或赛道:台积电巩固领先地位,客户苹果、英伟达、AMD等将受益;竞争对手三星、英特尔追赶压力增大。
4.为什么值得关注:2nm及以下节点的量产和良率是延续摩尔定律的关键,CFET和CoWoS直接关乎未来AI芯片性能与能效,该进展凸显台积电在先进代工的绝对优势。
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